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声子晶体板中低频完全禁带形成机理研究
更新时间:2025-07-09
    • 声子晶体板中低频完全禁带形成机理研究

    • Forming Mechanisms of Low-Frequency Complete Band Gaps in Phononic Crystal Plate

    • 西安交通大学学报   2016年50卷第12期 页码:51-57
    • DOI:10.7652/xjtuxb201612009    

      中图分类号: O799
    • 网络首发:2016-12-10

      纸质出版:2016

    移动端阅览

  • 李锁斌 1, 陈天宁 1, 奚延辉 1, 等. 声子晶体板中低频完全禁带形成机理研究[J]. 西安交通大学学报, 2016,50(12):51-57. DOI: 10.7652/xjtuxb201612009.

    Forming Mechanisms of Low-Frequency Complete Band Gaps in Phononic Crystal Plate[J]. 2016, 50(12): 51-57. DOI: 10.7652/xjtuxb201612009.

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