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矩形平面直流磁控溅射装置工作区域磁场分析
专题研究 | 更新时间:2025-12-08
    • 矩形平面直流磁控溅射装置工作区域磁场分析

    • Magnetic Field in Working Region of Rectangular Planar DC Magnetron Sputtering Apparatus

    • 西安交通大学学报   2007年41卷第12期 页码:1441-1445
    • 中图分类号: TN305
    • 网络首发:2007-12-10

      纸质出版:2007

    移动端阅览

  • 邱清泉 1, 励庆孚 1, Yu Jiao 2, 等. 矩形平面直流磁控溅射装置工作区域磁场分析[J]. 西安交通大学学报, 2007,41(12):1441-1445. DOI:

    邱清泉 1, 励庆孚 1, Yu Jiao 2, et al. Magnetic Field in Working Region of Rectangular Planar DC Magnetron Sputtering Apparatus[J]. 2007, 41(12): 1441-1445. DOI:

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